Titre
Multivariable dynamic modeling and plasma-oriented advanced process control of nonlinear reactive sputtering - PhD Thesis
Auteur
Wölfel, Christian
Langue
Duits
ISBN
9783753424842
Éditeur
BoD - Books on Demand
Prix
€ 144,30(Excl. toute livraison)
Frais de livraison
€ 2,95
Détails
2021 340pp Paperback / softback
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Flaptekst
This thesis investigates the nonlinear reactive sputter process in a novel way: both from the control-theoretical side and from the plasma-physical side.
The plasma behavior is explicitly considered for the process modeling and for the design of the control system to establish steady-state plasma conditions. By use of one of the presented control systems an unstable operation point of the process can be stabilized, which enables high deposition speed and a stoichiometric thin film subject to steady-state plasma conditions. In this framework, the plasma state is either defined by the self-bias voltage or the electron density. The application of the Multipole Resonance Probe allows to control the electron density as a quantity that directly characterizes the plasma state.
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